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关于CVD化学气相沉积
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832
发布日期:
2022/4/8
关于CVD化学气相沉积
点击次数:832 发布时间:2022/4/8
提 供 商:
湘潭市三星仪器有限公司
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CVD: 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)
CVD: 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition),用含有目标元素的气体,接收能量后通过化学反应,制备固体薄膜。
CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的。化学气相沉积法是传统的制备薄膜的技术,其原理是利用气态的反应物,通过原子、分子间化学反应,使得气态前驱体中的某些成分分解,而在基体上形成薄膜。化学气相沉积包括常压化学气相沉积、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积、金属有机化合物沉积等。
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