您好,欢迎进入湘潭市三星仪器有限公司网站!
一键分享网站到:
您现在的位置:首页 >> 资料下载 >> 关于CVD化学气相沉积
关于CVD化学气相沉积
浏览次数:348发布日期:2022/4/8

关于CVD化学气相沉积

点击次数:348 发布时间:2022/4/8
提 供 商: 湘潭市三星仪器有限公司 资料大小: JPG
图片类型: JPG 下载次数: 7
资料类型: PDF 浏览次数: 348
相关产品:
详细介绍: 文件下载    图片下载    

 

CVD: 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)

CVD: 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition),用含有目标元素的气体,接收能量后通过化学反应,制备固体薄膜。CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的。化学气相沉积法是传统的制备薄膜的技术,其原理是利用气态的反应物,通过原子、分子间化学反应,使得气态前驱体中的某些成分分解,而在基体上形成薄膜。化学气相沉积包括常压化学气相沉积、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积、金属有机化合物沉积等。


 

 

    QQ在线客服
  •   在线咨询
  • 点击这里给我发消息
电话
0731-58223395 58223399 13341323987
手机
13037327145钟 18975216877周